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セラミックスプロセッシンググループ

近年、IT・半導体、環境、原子力、航空宇宙などの先端産業を支える新デバイスの開発、機器の発展、高効率化、環境負荷の低減が強く求められています。セラミックスプロセッシンググループでは、光、電磁機能、耐熱性や高強度といった基本的特性の先鋭化に加えて、これらの特性を意図的に重畳あるいは洗練させた先端セラミックスを創製すること目指しています。

専門分野・研究対象

セラミックスにおいて微構造制御はセラミックスの特性を向上させる有効な手法です。先進セラミックスの優れた特性を環境・エネルギー分野で有効に活用するために、バルクセラミックスでの微構造を精緻に制御することを目指します。そのために、粒子合成・成形・焼結といったセラミックスのプロセスの原理を解明し、微構造を的確に制御するプロセスの開発を図ります。
具体的には、粉末合成プロセス、粒子分散プロセス、結晶配向プロセス、方向性凝固・反応焼成プロセスなどの要素技術を個々に、また、各々を重畳していくことで、より高次な微構造の制御を可能とするプロセスを開発します。例えば、異方性が予想されるアパタイトを結晶配向することによりイオン伝導の優れた方位を並べる。熱電材料を粒界に分散させる際に磁場により配向させて熱電特性に有利な方位での分散を行う。また、成形中に結晶配向させた試料を放電プラズマ焼結中での反応を用いることにより、硬度が高い面を並べることが可能となれば、さらに高硬度の材料の創製が可能となります。新規プロセスにより特性に最適な微構造をデザインし、優れた機能に信頼性を加味したセラミックスの創製をします。


グループリーダー

(すずき とおる)

鈴木 達

(すずき とおる)


お問い合わせ先

セラミックスプロセッシンググループ
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
E-Mail: SUZUKI.Tohru=nims.go.jp([ = ] を [ @ ] にしてください)
国立研究開発法人物質・材料研究機構
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL.029-859-2000 (代表)
FAX.029-859-2029